簡要描述：可控氣氛真空爐主要用于高溫密退火、微晶化陶瓷釉料制備、模具退火、粉末燒結(jié)、塑膠粉末實驗，納米材料、金屬零部件在氣氛保護(hù)下是退火熱處理。廣泛用于高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進(jìn)行燒結(jié)﹑融化﹑分析、生產(chǎn)

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2024-10-23
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產(chǎn)品介紹

品牌	中奧菲達(dá)	升溫速度（達(dá)到最高溫）	60/min
內(nèi)部尺寸	300×200×200 mmmm	加熱方式	硅碳棒
最大功率	4000kW	控溫精度	1℃
最高溫度	1400℃	價格區(qū)間	5千-1萬
儀器種類	箱式爐	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),綜合

可控氣氛真空爐是一款臥式真空氣氛箱式爐，也可叫無氧退火爐，或者真空氣氛燒結(jié)爐，專門設(shè)計用于對物料在真空狀態(tài)并通一定氣氛（如惰性氣體等）環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)，額定溫度可以達(dá)到1800℃。此款真空爐采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以硅鉬棒或者硅碳棒為加熱元件，爐體設(shè)計是爐膛具有較好的真空密封性，爐體上安裝有氣體控制系統(tǒng)。

主要用途：高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設(shè)備。

可控氣氛真空爐規(guī)格參數(shù)：

高溫度：	1200℃，1400℃，1700℃，1800℃
常規(guī)爐膛尺寸：	100x100x100, 200x150x150, 300x200x200, 400x300x300， 500x400x400
工作電壓：	220V/380V
熱電偶：	K型（0-1200℃），S型（0-1600°C），B型（0-1820°C）
加熱元件：	含鉬電阻絲，硅碳棒，硅鉬棒
控溫精度：	±1℃
升溫速率：	高20℃/每分鐘，建議低于15℃/每分鐘
真空度：	約-0.1MPA
可通氣體：	惰性氣體，混合氣體，氮?dú)猓趸?，氧氣，水蒸氣等，不可通入易燃易爆、酸堿腐蝕性或有毒氣體
密封方式：	整體爐門，硅膠內(nèi)嵌密封，使用方便
控溫方式：	智能溫控儀，30/50段編程PID自整定，智能自動升降溫；也可選配RS-485接口連接電腦
爐膛材質(zhì)：	輕質(zhì)氧化鋁陶瓷纖維，保溫效果優(yōu)良
箱體設(shè)計：	殼體采用雙層強(qiáng)制風(fēng)冷構(gòu)造
節(jié)能效果：	能效高、節(jié)能環(huán)保
電路安全：	集成模塊電路，雙回路保護(hù)（超高溫保護(hù)，偏溫保護(hù)，斷偶保護(hù)，超流超壓保護(hù)）
電爐應(yīng)用：	學(xué)校以及研究機(jī)構(gòu)科研院所研究及小批量生產(chǎn)，應(yīng)用領(lǐng)域有金屬，陶瓷，化工，電子，礦產(chǎn)，玻璃，機(jī)械，特殊材料等