簡要描述：管式真空氣氛爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，爐管下方配有支架，有效防止?fàn)t管兩端高溫變形斷裂；可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2024-10-23
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產(chǎn)品介紹

品牌	中奧菲達	升溫速度（達到最高溫）	30/min
內(nèi)部尺寸	Φ60*800mmmm	加熱方式	硅碳棒
最大功率	2000kW	控溫精度	1℃
最高溫度	1400℃	價格區(qū)間	5千-1萬
儀器種類	管式爐	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合

管式真空氣氛爐用途：管式電爐的使用范圍非常廣泛，適用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校實驗室等。作化學(xué)分析、物理測定、以及金屬件和小型模具鋼件的熱處理。

AFD1200℃系列管式真空氣氛爐
產(chǎn)品用途	適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結(jié)。
設(shè)備型號	工作尺寸	加熱區(qū)	極限溫度	工作溫度	功率電壓
AFD1200-40	φ40x1000	300mm	1200℃	≤1100℃	220V 4KW
AFD1200-50	φ50x1000	300mm	1200℃	≤1100℃	220V 4KW
AFD1200-60	φ60x1000	300mm	1200℃	≤1100℃	220V 4KW
AFD1200-80	φ80x1000	300mm	1200℃	≤1100℃	220V 4KW
AFD1200-100	φ100x1000	300mm	1200℃	≤1100℃	220V 4KW
正負(fù)壓力	抽真空至 10Pa(機械泵)；工作壓力低于0. 1MPa（使用工作壓力≤0.04MPa）
溫場效果	溫度波動度：±1.0℃，溫場均勻性±3.0℃
可充氣體	氫氣，氮氣，氧氣和氬氣及其它惰性氣體
開門方式	可以向后翻轉(zhuǎn)，方便安裝石英管及快速降溫
殼體結(jié)構(gòu)	雙層爐殼，爐體表面溫度低，四周表面溫度：≤ 35℃，內(nèi)箱采用3mm spcc無縫焊接
安全保護系統(tǒng)	具備完善的保護功能，有超溫、短偶、過流、短路、傳動動作連鎖等功能，操作安全可靠；
操作系統(tǒng)	LED數(shù)顯儀表，數(shù)字顯示電流表、電壓表，指針壓力表
溫控系統(tǒng)	溫度控制方式為P.I.D+S.C.R可控硅,移相觸發(fā)，可以調(diào)控制時間、升溫速率、控制功率，PV值與SV同步顯示，沖溫不超過5℃
溫控曲線	50段可編程控制，可設(shè)置50段升降溫程序
測溫元件	K型熱電偶
加熱元件	電阻絲，加熱元件放在爐膛底部及兩側(cè)采用氣體對流和熱輻射加熱，升溫速率：≤ 20 ℃/ Min，升溫速率建議:5-8℃/Min
爐膛材料	1500型高純氧化鋁微晶體纖維，保溫性能好
售后服務(wù)	12個月質(zhì)保（相關(guān)易耗件除外），終身保修
包裝方式	三合板木質(zhì)包裝箱或硬質(zhì)泡沫包裝
設(shè)備隨機配件	高溫手套1付；爐勾1把；真空法蘭1套；密封圈6只，爐塞2只，石英管1根，產(chǎn)品說明書1份；保修1份。
選配配件	1．自動抽真空、超壓自動放氣功能 2．觸摸屏無紙記錄儀操作系統(tǒng) 3．冷卻水循環(huán)設(shè)備（如果選用冷卻水法蘭） 4．聲光報警系統(tǒng) 5．真空泵 6．流量計 7．坩堝